Produção de filmes finos de óxidos de vanádio (VOx) a partir de V2O3 e molibdênio por codeposição via pulverização catódica assistida por campo magnético - G de F. T. Barbosa, Fernanda; L. Ferreira, Carlos; S. B. de Castro, Marcelo (Revista Militar de Ciência e Tecnologia, 2020)
Nesse trabalho, foram produzidos e caracterizados filmes finos de VOx com adição de molibdênio para a aplicação em detecção de radiação infravermelha utilizando a técnica de pulverização catódica, a partir da codeposição de um alvo de V2O3 - e de um alvo de molibdênio, em atmosfera inerte de argônio, em temperatura ambiente e sem tratamento térmico pós-deposição. Esse conjunto de condições possibilitou a produção de filmes adequados à aplicação em questão, em uma única etapa de fácil controle. As amostras geradas foram caracterizadas por espectroscopia de fotoelétrons excitados por raios X (XPS), por difração de raios X por incidência rasante (GIDRX) e pelas medidas do coeficiente de variação de resistência elétrica com a temperatura (TCR) e da resistência de folha. Constatou-se que os filmes formados eram multifásicos, sem espécies de vanádio ou molibdênio metálico e sem transição de fase. Constatouse ainda que a adição do molibdênio modificou as propriedades elétricas dos filmes de forma não-monotônica e que a percentagem de Mo adicionada ultrapassou o limite de solubilidade nas redes VOx dos filmes. O melhor resultado para aplicação em microbolômetros foi obtido com o filme produzido com 5% at. Mo, o qual exibiu um TCR de 2,1 %K-1 e uma resistência de folha da ordem de 1,2 kΩ