Desenvolvimento de um sistema de pulverização catódica com fonte de radiofrequência assistido por campos magnéticos para produção de filmes finos - Pimenta, Austim Mota Gomide; Ferreira, Carlos (Revista Militar de Ciência e Tecnologia, 2026)
Este trabalho descreve a concepção, a construção e a caracterização de um sistema de pulverização catódica com fonte de radiofrequência assistida por campos magnéticos para deposição de filmes finos. Materiais para alvo com propriedades elétricas distintas, foram usados para caracterizar o sistema: cobre, óxido de índio e dióxido de silício. Os filmes foram depositados em substratos de vidro e silício, à temperatura ambiente, com uma pressão de deposição da ordem de 8x10-4 Torr. A microestrutura dos filmes finos obtidos foi caracterizada por difração de raios x e microscopia de força atômica. As propriedades elétricas e óticas foram obtidas pelas medidas de efeito Hall e de transmitância, respectivamente. Os resultados mostraram que o sistema construído possibilita a deposição de filmes de alta qualidade e boa uniformidade de espessura. Para todos os materiais investigados, a taxa de deposição aumentou linearmente com a potência e as propriedades obtidas estavam de acordo com os valores reportados na literatura, mostrando o controle dos parâmetros de deposição no sistema construído.